1.開啟電壓VT-開啟電壓（又稱閾值電壓）：使得源極S和漏極D之間開端構成導電溝道所需的柵極電壓；-規(guī)范的N溝道MOS管，VT約為3～6V；-經過工藝上的改良，能夠使MOS管的VT值降到2～3V。

2. 直流輸入電阻RGS-即在柵源極之間加的電壓與柵極電流之比-這一特性有時以流過柵極的柵流表示-MOS管的RGS能夠很容易地超越1010Ω。

3. 柵源擊穿電壓BVGS-在增加柵源電壓過程中，使柵極電流IG由零開端劇增時的VGS，稱為柵源擊穿電壓BVGS。

4. 漏源擊穿電壓BVDS-在VGS=0（加強型）的條件下 ，在增加漏源電壓過程中使ID開端劇增時的VDS稱為漏源擊穿電壓BVDS-ID劇增的緣由有下列兩個方面：

（1）漏極左近耗盡層的雪崩擊穿

（2）漏源極間的穿通擊穿-有些MOS管中，其溝道長度較短，不時增加VDS會使漏區(qū)的耗盡層不斷擴展到源區(qū)，使溝道長度為零，即產生漏源間的穿通，穿通后，源區(qū)中的多數(shù)載流子，將直承受耗盡層電場的吸收，抵達漏區(qū)，產生大的ID

5. 低頻跨導gm-在VDS為某一固定數(shù)值的條件下 ，漏極電流的微變量和惹起這個變化的柵源電壓微變量之比稱為跨導-gm反映了柵源電壓對漏極電流的控制才能-是表征MOS管放大才能的一個重要參數(shù)-普通在非常之幾至幾mA/V的范圍內

6. 極間電容-三個電極之間都存在著極間電容：柵源電容CGS 、柵漏電容CGD和漏源電容CDS-CGS和CGD約為1～3pF-CDS約在0.1～1pF之間

7. 導通電阻RON-導通電阻RON闡明了VDS對ID的影響 ，是漏極特性某一點切線的斜率的倒數(shù)-在飽和區(qū)，ID簡直不隨VDS改動，RON的數(shù)值很大，普通在幾十千歐到幾百千歐之間-由于在數(shù)字電路中 ，MOS管導通時經常工作在VDS=0的狀態(tài)下，所以這時的導通電阻RON可用原點的RON來近似-對普通的MOS管而言，RON的數(shù)值在幾百歐以內

8. 低頻噪聲系數(shù)NF-噪聲是由管子內部載流子運動的不規(guī)則性所惹起的-由于它的存在，就使一個放大器即使在沒有信號輸人時，在輸出端也呈現(xiàn)不規(guī)則的電壓或電流變化-噪聲性能的大小通常用噪聲系數(shù)NF來表示，它的單位為分貝（dB）-這個數(shù)值越小，代表管子所產生的噪聲越小-低頻噪聲系數(shù)是在低頻范圍內測出的噪聲系數(shù)-場效應管的噪聲系數(shù)約為幾個分貝，它比雙極性三極管的要小.
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